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Titan Sputter ziel

Auf der Vakuum abscheidung maschine wird zur Beschichtung ein Titan-Sputter-Target installiert. Es kann mit leitfähigem Film, Isolier film, dekorativem Film, super hartem Film, Schmier film, Magnet film und anderen Funktions filmen beschichtet werden. Es ist ein Material, das zur Herstellung dünner Filme unter Verwendung der Sputter abscheidung oder der Dünnschicht abscheidung stech no logie verwendet wird. Bei diesem Prozess beginnt das Sputter-Ziel material als Feststoff, der durch Gas ionen in winzige Partikel zerlegt wird, ein Spray bildet und ein anderes Material bedeckt. Wenn Sie mehr über Titan-Sputter-Ziels cheibe erfahren möchten, zögern Sie bitte nicht, die Chang sheng zu kontaktierenTitan rohr Lieferant.

ERHALTEN SIE EIN ZITAT

Titanium Sputter target Spezifikationen

Typ

Material

Reinheit

Metall ziel

W, Mo, Zr, Ta, Nb, Ni, Ti, Cr, Al, Cu, Si, Hf

2N5-5N

99,5%-99,999%

Legierung sziel

Ti-Al (50: 50at %, 80: 20at %, 70: 30at %, 60: 40at % 33: 67at %) ,

Si-Al (90: 10wt %, 70: 30wt %, 50: 50wt %)

Cr-Al (30: 70at %, 50: 50at %, 70: 30at %)

Cr-Si (50: 50wt %)

W-Ti (90: 10Wt %)

Ni-Cr (80: 20wt %)

Ti-Zr, Ti-Si, Ti-Nb, Nb-Zr, Nb-W-Zr, Ti-Al-Si

> 99,9%

Form

Allgemeine Größe

Zeichnung

Scheibe/Multi Bogen

Durchmesser 60/65/95/100*30/32/40/45mm

Andere Größen können angepasst werden

Flach/planar

Breite max 300mm, Länge max3000mm

Rotary/röhrenförmig

OD70 x Wt7 x L mm

OD80XWt8XL mm

OD127 x ID105 x L mm

OD146 x ID136 x L mm

OD219 x ID194 x L mm

OD300 x ID155 x L mm



Titan Sputter-Ziel-Anwendungen

  • Architekto nisches Glas, Auto mit Glas, grafisches Display feld

  • Elektronisches und Halbleiter feld

  • Dekoration und Schimmel feld

  • Optik beschichtung materialien

  • Solar-Photovoltaik-Industrie

  • Verschleiß feste Beschichtung



Titan Sputter ziel Produktions prozess

  • Pulver metallurgie (HIP)

  • Schmelz verarbeitung (Schmelzen, Schmieden, Bohren, Bearbeitung)

  • Thermisches Sprühen

  • Ziel bindung



Analytische Fähigkeit des Titanium Sputter target

  • Emissions spektroskopie

  • Direkt gekoppelte Plasmas pektrometrie

  • Atom absorptions spektrometrie

  • Raster elektronen mikroskopie

  • Röntgen beugung


Vorteile von Titan Sputter zielen


  • Hohe Duktilität:Die hohe Duktilität dieser Titan-Sputter targets ermöglicht es, sie in verschiedene Formen zu formen und zu formen, ohne zu brechen oder zu reißen, was Flexibilität bei ihrer Verwendung bietet.

  • Aus gezeichnete Wärme leitfähig keit:Die Titan-Sputter targets von Chang sheng Titanium weisen eine hervorragende Wärme leitfähig keit auf, um eine effiziente Wärme ableitung zu gewährleisten. Dies ist entscheidend für die Aufrechterhaltung der Langlebig keit und Leistung der Geräte, in denen sie verwendet werden.

  • Optimale, homogene Mikros truktur:Die Titan-Sputter targets haben eine optimale, homogene Mikros truktur, die konsistente Sputter raten gewähr leistet und zu einer hochwertigen Dünnschicht abscheidung führt.

  • Höchste materielle Reinheit:Chang sheng Titanium garantiert die höchste Material reinheit in seinen Titan-Sputter targets. Dieser hohe Reinheit sgrad reduziert das Kontamination risiko und stellt die Herstellung hochwertiger, zuverlässiger Produkte sicher.

Grund voraussetzung des Titanium Sputter target

  • Reinheit:Das Titan-Sputter target muss einen hohen Reinheit sgrad aufweisen, typischer weise über 99,99%, um eine optimale Leistung während des Sputter prozesses sicher zustellen.

  • Verunreinigung gehalt:Der Verunreinigung gehalt im Titan-Sputter target muss minimiert werden. Alle Verunreinigungen können den Sputter prozess und die Qualität des erzeugten Dünnfilms beeinträchtigen.

  • Dichte:Das Titan-Sputter target muss eine hohe Dichte aufweisen, die nahe der theoretischen Dichte von Titan liegt. Ein Target mit hoher Dichte gewähr leistet ein gleichmäßiges Sputtern und einen gleichmäßigen dünnen Film.

  • Korngröße:

  • Korngröße-Verteilung:Chang sheng Titanium verwendet fortschritt liche Herstellungs verfahren, um die Korngrößen verteilung im Titan-Sputter-Ziel zu kontrollieren und so die höchsten Qualitäts ziele für unsere Kunden zu gewährleisten.

Maßge schneiderte Titanium Sputter ziele

Bei Chang Sheng Titanium sind wir auf die Herstellung maßge schneider ter Titan-Sputter-Ziele spezial isiert, die auf die spezifischen Anforderungen von kommerziellen und Forschungs anwendungen zuges chnitten sind. Unser Know-how erstreckt sich auf die Schaffung einzigartiger Kompositionen für neue proprietäre Technologien, um eine optimale Leistung und Effizienz zu gewährleisten. Unabhängig davon, ob Sie Standard-oder kunden spezifische Spezifikationen benötigen, bieten unsere hochwertigen Titan-Targets außer gewöhnliche Ergebnisse.

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