Typ | Material | Reinheit |
Metall ziel | W, Mo, Zr, Ta, Nb, Ni, Ti, Cr, Al, Cu, Si, Hf | 2N5-5N 99,5%-99,999% |
Legierung sziel | Ti-Al (50: 50at %, 80: 20at %, 70: 30at %, 60: 40at % 33: 67at %) , Si-Al (90: 10wt %, 70: 30wt %, 50: 50wt %) Cr-Al (30: 70at %, 50: 50at %, 70: 30at %) Cr-Si (50: 50wt %) W-Ti (90: 10Wt %) Ni-Cr (80: 20wt %) Ti-Zr, Ti-Si, Ti-Nb, Nb-Zr, Nb-W-Zr, Ti-Al-Si | > 99,9% |
Form | Allgemeine Größe | Zeichnung |
Scheibe/Multi Bogen | Durchmesser 60/65/95/100*30/32/40/45mm | Andere Größen können angepasst werden |
Flach/planar | Breite max 300mm, Länge max3000mm | |
Rotary/röhrenförmig | OD70 x Wt7 x L mm OD80XWt8XL mm OD127 x ID105 x L mm OD146 x ID136 x L mm OD219 x ID194 x L mm OD300 x ID155 x L mm |
Architekto nisches Glas, Auto mit Glas, grafisches Display feld
Elektronisches und Halbleiter feld
Dekoration und Schimmel feld
Optik beschichtung materialien
Solar-Photovoltaik-Industrie
Verschleiß feste Beschichtung
Pulver metallurgie (HIP)
Schmelz verarbeitung (Schmelzen, Schmieden, Bohren, Bearbeitung)
Thermisches Sprühen
Ziel bindung
Emissions spektroskopie
Direkt gekoppelte Plasmas pektrometrie
Atom absorptions spektrometrie
Raster elektronen mikroskopie
Röntgen beugung
Hohe Duktilität:Die hohe Duktilität dieser Titan-Sputter targets ermöglicht es, sie in verschiedene Formen zu formen und zu formen, ohne zu brechen oder zu reißen, was Flexibilität bei ihrer Verwendung bietet.
Aus gezeichnete Wärme leitfähig keit:Die Titan-Sputter targets von Chang sheng Titanium weisen eine hervorragende Wärme leitfähig keit auf, um eine effiziente Wärme ableitung zu gewährleisten. Dies ist entscheidend für die Aufrechterhaltung der Langlebig keit und Leistung der Geräte, in denen sie verwendet werden.
Optimale, homogene Mikros truktur:Die Titan-Sputter targets haben eine optimale, homogene Mikros truktur, die konsistente Sputter raten gewähr leistet und zu einer hochwertigen Dünnschicht abscheidung führt.
Höchste materielle Reinheit:Chang sheng Titanium garantiert die höchste Material reinheit in seinen Titan-Sputter targets. Dieser hohe Reinheit sgrad reduziert das Kontamination risiko und stellt die Herstellung hochwertiger, zuverlässiger Produkte sicher.
Reinheit:Das Titan-Sputter target muss einen hohen Reinheit sgrad aufweisen, typischer weise über 99,99%, um eine optimale Leistung während des Sputter prozesses sicher zustellen.
Verunreinigung gehalt:Der Verunreinigung gehalt im Titan-Sputter target muss minimiert werden. Alle Verunreinigungen können den Sputter prozess und die Qualität des erzeugten Dünnfilms beeinträchtigen.
Dichte:Das Titan-Sputter target muss eine hohe Dichte aufweisen, die nahe der theoretischen Dichte von Titan liegt. Ein Target mit hoher Dichte gewähr leistet ein gleichmäßiges Sputtern und einen gleichmäßigen dünnen Film.
Korngröße:
Korngröße-Verteilung:Chang sheng Titanium verwendet fortschritt liche Herstellungs verfahren, um die Korngrößen verteilung im Titan-Sputter-Ziel zu kontrollieren und so die höchsten Qualitäts ziele für unsere Kunden zu gewährleisten.
Bei Chang Sheng Titanium sind wir auf die Herstellung maßge schneider ter Titan-Sputter-Ziele spezial isiert, die auf die spezifischen Anforderungen von kommerziellen und Forschungs anwendungen zuges chnitten sind. Unser Know-how erstreckt sich auf die Schaffung einzigartiger Kompositionen für neue proprietäre Technologien, um eine optimale Leistung und Effizienz zu gewährleisten. Unabhängig davon, ob Sie Standard-oder kunden spezifische Spezifikationen benötigen, bieten unsere hochwertigen Titan-Targets außer gewöhnliche Ergebnisse.