Erkundung der Titan-Sputter ziele

Definitionen

Titan-Sputter targets sind spezielle Materialien, die beim Sputtern verwendet werden. Dies ist eine Technik, die üblicher weise bei der Herstellung von Dünn filmen angewendet wird. Beim Sputtern wird ein festes Ziel material mit hoch energetischen Partikeln, typischer weise Ionen, beschossen, um Atome von der Ziel oberfläche zu entfernen. Diese Atome lagern sich dann auf einem Substrat ab und bilden einen dünnen Film.

Spezifikationen

Titan-Sputter-ZielKommen in verschiedenen Spezifikationen, um verschiedene Anwendungs anforderungen zu erfüllen. Die Spezifikationen umfassen die Form, Größe, Reinheit und Zusammensetzung des Ziel materials. Die Form kann zylindrisch, rechteckig oder individuell nach spezifischen Bedürfnissen gestaltet sein. Die Größe kann je nach Verwendung zweck des Ziels zwischen einigen Millimetern und mehreren Zoll Durchmesser liegen. Die Reinheit grade sind typischer weise hoch und reichen von 99,9% bis 99,999%. Die Zusammensetzung kann reines Titan sein oder mit anderen Elementen legiert sein, um bestimmte Eigenschaften zu verbessern.

Anwendungen

Titan-Sputter ziele finden Anwendungen in einer Vielzahl von Branchen. Sie werden üblicher weise bei der Herstellung von Halbleiter bauelementen wie integrierten Schaltkreisen und Solarzellen verwendet. Die durch Sputtern von Titan targets erzeugten dünnen Filme werden auch bei der Herstellung von optischen Beschichtungen, dekorativen Beschichtungen und korrosions beständigen Schichten verwendet. Darüber hinaus werden sie in Forschungs-und Entwicklungs labors für verschiedene experimentelle Zwecke eingesetzt.

Merkmale und Fertigungs prozesse

Titan-Sputter ziele besitzen mehrere Hauptmerkmale, die sie ideal für Sputter anwendungen machen. Titan ist bekannt für seine aus gezeichnete Korrosions beständigkeit, sein hohes Verhältnis von Festigkeit zu Gewicht und seine Bioko mpatibilität, wodurch es für den Einsatz in verschiedenen Umgebungen geeignet ist. Der Herstellungs prozess von ihnen umfasst mehrere Schritte. Es beginnt mit der Auswahl hochwertiger Titan rohstoffe, die dann geschmolzen und in die gewünschte Form gegossen werden. Das gegossene Ziel wird dann verschiedenen Bearbeitungs prozessen wie Drehen, Fräsen und Schleifen unterzogen, um die endgültigen Abmessungen und die Oberflächen beschaffenheit zu erreichen. Das Ziel wird dann gründlich gereinigt und überprüft, um seine Qualität sicher zustellen, bevor es verpackt und an Kunden versendet wird.

Chang sheng Titan Sputter ziel Hersteller

Chang sheng Titanium ist ein renommierter Hersteller von Titan-Sputter targets, Zinns putter targets und anderen verwandten Produkten. Chang sheng TitaniumTitan-Legierung LieferantBietet eine breite Palette von Spezifikationen und kann auch maßge schneiderte Ziele bereitstellen, um bestimmte Kunden anforderungen zu erfüllen. Chang sheng Titanium ist bestrebt, Produkte zu liefern, die den höchsten Standards von Qualität und Zuverlässigkeit entsprechen.