Wolfram-Ziel parameter | ||||
Element | W | |||
Reinheit | ≥ 99,95% (3 N5) | |||
Typische Proben dimension | 12mm × 80mm × 100mm | |||
Dichte | 19,25g/cm3 (HIP) | |||
Härte | HV5:280-310 | |||
Korngröße | 43μm | |||
Aussehen | Ra ≤ 0,4 μm | |||
Verunreinigung gehalt | Ti | ≤ 10ppm | Ni | ≤ 6ppm |
Na | ≤ 5ppm | Pb | ≤ 1ppm | |
C | ≤ 20ppm | P | ≤ 8ppm | |
Ca | ≤ 10ppm | Cu | ≤ 5ppm | |
Mg | ≤ 7ppm | |||
Si | ≤ 10ppm | |||
Al | ≤ 5ppm | |||
Als | ≤ 10ppm | |||
Fe | ≤ 10ppm |
Weit verbreitet in Flach bildschirm, Solarzellen, integrierten Schaltkreisen, Autoglas, Mikro elektronik, Speicher, Röntgenröhre, medizinischen Geräten, Schmelz geräten und anderen Produkten.
Zusätzlich zu Wolfram-Targets können wir auch Wolfram-Titan, Silber-Wolfram, Wolfram-Molybdän, Nickel-Wolfram, Wolfram trioxid, Wolfram sulfid, Wolfram diborid, wolfram oxid und andere Sputter ziele.
Das Wolfram ziel ist ein Teil der Anode, der strategisch in einem 45-Grad-Winkel im Kupfer block eingestellt ist. Diese spezifische Position ierung soll die Oberfläche vergrößern, die mit den einfallenden Elektronen interagiert. Diese Wechsel wirkung ist von entscheidender Bedeutung für die Herstellung von Röntgens trahlen in medizinischen Bildgebung geräten sowie für die Erzeugung dünner Filme in der Elektronik.
Darüber hinaus trägt der 45-Grad-Winkel dazu bei, die Wärme gleichmäßiger über das Ziel zu verteilen. Dies ist ein kritisches Merkmal, da es verhindert, dass das Metall schmilzt, um die Langlebig keit und Leistung der Ausrüstung zu gewährleisten.