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Chang sheng Titanium stellt eine Reihe von Zielen aus Wolfram (W), Molybdän (Mo), Niob (Nb) und Tantal (Ta) her. Diese werden in Verfahren der physikalischen Gasphase abscheidung (PVD) und der chemischen Gasphase abscheidung (CVD) für Dünnschicht beschichtung anwendungen eingesetzt. Unter ihnen,Molybdän-Sputter zielUndNiob-Sputter-ZielSind beliebte Produkte.
Mo, Nb und Ta weisen eine hohe chemische Inert heit auf, um sicher zustellen, dass sie nicht mit den Prozess gasen oder Materialien reagieren, die bei der Dünnschicht abscheidung verwendet werden. Diese Inert heit trägt zur Aufrechterhaltung der Ziel integrität und der Film reinheit bei.
W-, Mo-, Nb-und Ta-Ziele können in verschiedenen Formen hergestellt werden, z. B. planare oder rotierende Ziele, um unterschied lichen Abscheidung systemen und Anforderungen gerecht zu werden.
W, Mo, Nb und Ta haben alle außer gewöhnlich hohe Schmelzpunkte, was sie für Prozesse geeignet macht, die hohe Temperaturen beinhalten, wie z. B. physikalische Dampf abscheidung (PVD). und chemische Gasphase abscheidung (CVD).
Wolfram und Kupfer haben eine hohe Wärme leitfähig keit, was eine gleichmäßige Film abscheidung und Wärme ableitung während des Ziels putterns unterstützt.
No.26 Baotai Road, Weibin District, Baoji City, Shaanxi, China.
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